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晶圓缺陷檢測(cè):寬場(chǎng)熒光顯微成像模組

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 產(chǎn)品時(shí)間:2024-07-10
  • 簡(jiǎn)要描述:晶圓缺陷檢測(cè):寬場(chǎng)熒光顯微成像模組,以自動(dòng)化顯微鏡模組為基礎(chǔ),針對(duì) SiC 等化合物半導(dǎo)體晶圓位錯(cuò)、層錯(cuò)等缺陷檢測(cè)需求。
  • 產(chǎn)品介紹

晶圓缺陷檢測(cè):寬場(chǎng)熒光顯微成像模組

Wide-field Fluorescence Microscope Module

  • 晶圓缺陷檢測(cè):寬場(chǎng)熒光顯微成像模組以自動(dòng)化顯微鏡模組為基礎(chǔ),針對(duì) SiC 等化合物半導(dǎo)體晶圓位錯(cuò)、層錯(cuò)等缺陷檢測(cè)需求。

  • 無須化學(xué)腐蝕、解理等樣品前處理工藝,非接觸、無損、整晶圓檢測(cè)。

晶圓缺陷檢測(cè):寬場(chǎng)熒光顯微成像模組

產(chǎn)品特性和核心技術(shù):

激光自動(dòng)聚焦。

  • 自主研制的激光輔助離焦量傳感器。

  • 可在紫外激發(fā)光照射樣品并采集熒光信號(hào)的同時(shí)工作,實(shí)現(xiàn)自動(dòng)聚焦和表面跟蹤。

紫外暗場(chǎng)照明。

  • 標(biāo)配波長(zhǎng) 275 nm 紫外激發(fā)光,可按用戶要求定制其它波長(zhǎng)激發(fā)光。

  • 可同位采集明場(chǎng)顯微像、可見光波段暗場(chǎng)熒光像、紅外波段暗場(chǎng)熒光像,分析樣品中位錯(cuò)、層錯(cuò)等。

  • 晶格缺陷的分布。

全自動(dòng)操作。

  • 自動(dòng)化的控制軟件和數(shù)據(jù)處理軟件,全軟件操作。

相關(guān)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn):

  • 《中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn) GB_T 43493.3-2023 半導(dǎo)體器件 功率器件用碳化硅同質(zhì)外延片缺陷的無損檢測(cè)識(shí)別判據(jù) 第 3 部分:缺陷的光致發(fā)光檢測(cè)方法》(2023 年 12 月 28 日發(fā)布,2024 年7月1日實(shí)施)

性能參數(shù):

晶圓缺陷檢測(cè):寬場(chǎng)熒光顯微成像模組

應(yīng)用案例:

6 英寸 SiC 外延片缺陷檢測(cè)

堆疊層錯(cuò)(SF)

晶圓缺陷檢測(cè):寬場(chǎng)熒光顯微成像模組

基面位錯(cuò)(BPD)

晶圓缺陷檢測(cè):寬場(chǎng)熒光顯微成像模組


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